报告主题：氧化镓缺陷调控与可控掺杂
报告嘉宾：叶建东（教授，南京大学 电子科学与工程血流成河
血流成河
）
时 间：2026年11月30日（周一）上午9:00到9:40
地 点：粤海校区汇星楼报告厅(3)
报告人简介
叶建东，南京大学教授、博导。2002年和2006年于南京大学取得学士和博士学位。2006年至2015年分别于新加坡微电子研究所任职Senior Research Engineer和澳大利亚国立大学QE II Fellow。2010年于南京大学电子科学与工程血流成河
任职教授、博导。长期从事氧化镓超宽禁带半导体材料与器件研究。作为通讯作者近5年发表100余篇高水平论文，主/参编专著4本，授权发明专利20余件。主持国家重点研发计划、基金委杰青/重点/优青、江苏省杰青、江苏省重大科技专项、江苏省重点研发计划等。第一完成人获江苏省科学技术奖二等奖和澳大利亚QE II研究奖等。
报告内容简介
氧化镓是超宽禁带半导体材料的优异代表，具有禁带宽度大、临界击穿场强高、饱和速度高等优异的材料特性，是研制下一代大功率电子器件的先进战略性电子材料。近年来，得益于单晶衬底制备和n型外延掺杂技术的日益成熟，氧化镓在功率电子器件领域的发展十分迅速，器件部分性能指标已超越碳化硅的理论极限，充分展现出氧化镓巨大的发展潜力。报告将介绍南京大学团队在氧化镓超宽禁带半导体缺陷调控与可控掺杂方面的研究进展，同时展望超宽禁带半导体器件领域的关键挑战。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
麻将血流成河(中国)官方网站
2026年10月29日
